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說明：半導體、FPD制造流程越發要求精細化、高性能化，半導體硅電路板的清洗在各種加工工序中變得非常重要。氫氟酸具有蝕刻、除去硅氧化膜的特質，因此在半導體硅電路板的清洗流程中也是不可或缺的精細加工技術。由于現在的多段清洗工序中需要用到稀氫氟酸進行最終清洗，半導體的濕蝕刻工序對氫氟酸也要求很高的潔凈度。清洗對氫氟酸潔凈度要求極高的設備構件也需要用到超高純度的氫氟酸。

另外，半導體、FPD制造工序，超高純度藥劑不僅能去除氧化膜，而且能在抑制粒子附著、晶片表面的粗糙度等，達到各種對清洗性、功能性的要求。為此，我公司一直致力于對各種超高純度電子化學品進行研發及銷售。

包裝：加侖瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤壓力容器，

1000公斤IBC桶，20噸TANK罐。

聯系人：朱義坤：130-6948-8833

薛 棟：188-3907-6907

辛凱明：199-3918-1150

說明：我司所生產的電子級硝酸主含量70±0.5%，氯化物≤20ppb，磷酸鹽≤50ppb，硫酸鹽≤50ppb，鋁、鈉、鉀離子≤0.05ppb，其他金屬雜質離子≤0.03ppb，顆粒（≥0.1μm）≤25個/ml。

包裝: 200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶，20噸TANK罐

聯系人：朱義坤：130-6948-8833

說明：我司所生產的電子級氨水主含量（28.5-29.5）%，單個雜質金屬離子含量≤10ppt，硫酸根≤20ppb，磷酸根≤10ppb，顆粒(≥0.1μm)≤25個/ml。

包裝: 200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶，20噸TANK罐

聯系人：朱義坤：130-6948-8833

說明：電子級氟化銨是一種用于半導體制造工藝中的重要原材料。它可被用作高純度氟離子源和可控的淀積源，幫助調節氟離子濃度和控制膜厚度，因此可用于生產半導體器件中的絕緣層材料、金屬反應物、填充材料和電極所需材料等。電子級氟化銨在半導體和相關產業中具有廣泛的應用，是現代科技生產中不可或缺的原材料之一。在使用時需要注意采用純度較高的電子級產品，避免影響半導體器件的性能和可靠性。

包裝: 200公斤壓力容器,20噸TANK罐

聯系人：朱義坤：130-6948-8833